南京苏曼电子有限公司
科罗纳实验室
Corona lab.
公司介绍
南京苏曼电子有限公司始建于
1983年。二十几年来一直致力于低温
等离子体技术的理论研究和产品开发
及材料表面改性处理技术的研究。成
熟的掌握了在低气压和常温常压下，
以辉光放电、电晕放电、介质阻挡放
电、电弧放电的方式产生低温等离子
体的技术。
先进的技术
苏曼公司在PLASMA产品中融合了
谐振型频率脉宽调制技术、微程序控
制和模糊程序控制技术、数字信号处
理技术等现代先进技术。使苏曼公司
推出的相关PLASMA产品实现了电路数
字化、软件模糊化、结构模块化、产
品系列化。
CORONA Lab. 苏曼公司创建的科罗纳实验室
（CORONA Lab.）现在已经成为国内最具
技术实力和影响力的低温等离子体技术
和相关设备的研发基地。已经推出了十
几个系列的PLASMA产品。这些PLASMA设
备已经广泛的应用于科研和工业生产中。
如包装、纺织、塑料制品、汽车制造、
电子设备制造、家电制造、计算机、手
机、生物材料、医疗器皿、环保设备、
石油天然气管道、供暖管道等行业中。
苏曼公司的系列产品
用于塑料或金属薄膜表面处理的
CTE-K系列， ZW-A系列， CTR系列
CTE-K数码系列
CTE-1200K用于印刷、吹膜、复合、涂覆、金属化膜的表面改性处理。
处理宽度：塑料膜100～600mm（双面）
金属膜100～400mm（单面）
体积：200(W)×200(H)×250(D)mm
重量：5kg
CTE-1200K
数码一体型电晕处理机
CTE-K数码系列
CTE-2000K
数码一体型电晕处理机
CTE-2000K用于印刷、吹膜、复合、涂覆、金属化膜的表面改性处理。
处理宽度：塑料膜500～1000mm（双面）
金属膜300～700mm（单面）
体积：250(W)×200(H)×360(D)mm
重量：12kg
CTE-3000K用于印刷、吹膜、复合、涂覆、金属化膜的表面改性处理。
处理宽度：塑料膜500～1200mm（双面）
金属膜300～900mm（单面）
体积：250(W)×200(H)×360(D)mm
重量：14kg
CTE-3000K
数码一体型电晕处理机
CTE-K数码系列
CTE-K数码分体系列
CTE-4500K~6000K
数码分体型电晕处理机
CTE-4500K~6000K数码分体型电晕处理机主要应用于印刷、吹
膜、复合、涂覆、金属化膜和金属板材的表面改性处理。
处理宽度：塑料膜＜1600mm（双面）
金属膜＜1200mm（单面）
特点：主机和变压器分离。
CTE-K数码分体系列
CTE-8000K
数码分体型电晕处理机
CTE-8000K数码分体型电晕处理机主要应用于印刷、吹膜、复
合、涂覆、金属化膜和金属板材的表面改性处理。
处理宽度：塑料膜＜2200mm（双面）
金属膜＜1500mm（单面）
特点：主机和变压器分离。
CTE-K数码分体系列
CTE-12000F
大功率数码电晕处理机
CTE-12000F大功率数码电晕处理机主要应用于印刷、宽幅吹
膜、复合、涂布、流延、金属化膜和金属板材的表面改性处理。
处理宽度：塑料膜＜2200mm（双面）
金属膜＜1500mm（单面）
特点：大功率、主机和变压器分离。
CTR遥控系列
CTR-1000K~3000K
数码遥控型电晕处理机
CTR-1000K~3000K数码遥控型电晕处理机的技术指标对应于CTE-
K系列的CTE-1200K~3000K。用于印刷、吹膜、复合、涂覆、金属化
膜的电晕处理。特点：主机和控制器分离。
ZW-A智能系列
ZW-1200A~3600A
智能型电晕处理机
ZW-1200A~3600A智能型电晕处理机的技术指标对应于CTE-K系列
的CTE-1200K~3000K。用于印刷、吹膜、复合、涂覆、金属化膜的电
晕处理。特点：智能控制，一键操作。
RFD-200
这是单电极射频大气低温等离子体在大气压下放射
出的线状柱形低温等离子体区。等离子体在电极的3~4cm
区域呈辐射分布，其形状可为直线也可为各种曲线。特
别适合处理宽度在20cm内的各种中空的二维或三维物体
及厚的板材。如：各种化妆品硬包装、桶、壶、手机键
盘、机壳、头盔、准平面、生物材料。被处理的材料表
面光洁无损。但不适合处理金属或含有金属和导体的材
料！
这是大气喷射型射频低温等离子体在大气压下喷射
出的低温等离子体流。由于喷射出的等离子体流为开放
式，特别适合处理各种三维物体上的孔、槽和凹陷部位。
RFD-200
特点：自带气源零电压喷射式等离子炬
PTS-2000
等离子炬的喷射效果
CTD-2000F
特点：自带气源宽副喷射式等离子炬
等离子炬的喷射效果
次大气辉光放电表面处理系统
HPD-200 生产型设备
次大气辉光放电效果
特点：高气压、放电均匀、温度为常温
HPD-100 实验型设备
特点：高气压、放电均匀、温度为常温、双气源输入
CTP-2000K
特点：通用PLASMA电源。在化学、物
理、材料的PLASMA实验中，可用于介
质阻挡放电和辉光放电。
介质阻挡放电架
介质阻挡放电效果
介质阻挡平面放电效果
CTK-600片材等离子处理机
CP-500片材等离子处理机
排臭氧双面处理电晕放电架
普通双面处理电晕放电架
普通单面处理电晕放电架
普通金属膜处理电晕放电架
UWG大功率智能超声波电源
Coronalab
苏曼公司的注册商标：
地址
