PCB生产涨缩管控教育训练
课程纲要
序号 内容
1 尺寸涨缩概述
2 涨缩流程分解
3 涨缩制程管控方法
4 涨缩异常处理
2
1.尺寸涨缩概述
什么是尺寸涨缩?
尺寸涨缩通常就是指PCB制作流程中,其基材吸湿而澎涨,脱湿而
收缩之尺寸变化的过程.愈高温愈易吸湿,因而愈高温高湿时,尺寸变
化更大.
尺寸涨缩对PCB的影响?
尺寸涨缩对各制程的作业有很大的影响,它将影响到钻孔与内层
的对准度,外层和防焊,文字的对准度,以及成品的尺寸公差.
3
1.尺寸涨缩概述
通常我们所说的尺寸涨缩主要分为:基板涨缩与底片涨缩.
基板 底片
4
基板尺寸涨缩的原因:
（1）经纬方向差异造成基板尺寸变化;由于剪切时,未注意纤维方
向,造成剪切应力残留在基板内,一旦释放,直接影响基板尺寸的收缩.
基材尺寸涨缩的控制方法:
（1）确定经纬方向的变化规律按照收缩率在底片上进行补偿(光绘前进
行此项工作).同时剪切时按纤维方向加工,或按生产厂商在基板上提供的字
符标志进行加工.(一般是字符的竖方向为基板的纵方向)
1.尺寸涨缩概述
5
基板尺寸涨缩的原因:
（2）基板表面铜箔部份被蚀刻掉对基板的变化限制,当应力消除时产
生尺寸变化.
基材尺寸涨缩的控制方法:
（2）在设计电路时应尽量使整个板面分布均匀.如果不可能也要必须在
空间留下过渡段(不影响电路位置为主).这由于板材采用玻璃布结构中经纬
纱密度的差异而导致板材经纬向强度的差异.
1.尺寸涨缩概述
6
基板尺寸涨缩的原因:
（3）刷板时由于采用压力过大,致使产生压拉应力导致基板变形.
基材尺寸涨缩的控制方法:
（3）应采用试刷,使工艺参数处在最佳状态,然后进行刷板.对薄型基
材,清洁处理时应采用化学处理或喷砂处理.
1.尺寸涨缩概述
7
基板尺寸涨缩的原因:
（4）多层板在层压前,因基板有吸湿性,使薄基板或半固化片吸湿,造
成尺寸稳定性差,基板中树脂未完全固化,导致尺寸变化.
基材尺寸涨缩的控制方法:
（4）基材必须进行烘烤以除去湿气.并将处理好的基板存放在真空干燥
箱内,以免再次吸湿, 烘烤还可以确保树脂固化,减少由于冷热的影响,
导致基板尺寸的变形.
1.尺寸涨缩概述
8
基板尺寸涨缩的原因:
（5）多层板经压合时,过度流胶造成玻璃布形,从而导致尺寸.
基材尺寸涨缩的控制方法:
（5）需进行工艺试压,调整工艺参数然后进行压制.同时还可以根据
半固化的特性,选择合适的流胶量.
1.尺寸涨缩概述
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底片尺寸涨缩的原因:
（1）底片从真空包装拆包后静置时间不足;
底片尺寸涨缩的控制方法:
（1）黑片从真空包装中拆封后需静置24小时,棕片需静置8小时;
1.尺寸涨缩概述
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底片尺寸涨缩的原因:
（2）底片绘制完成后静置时间不足直接用于生产;
底片尺寸涨缩的控制方法:
（2）底片绘制完成后静置时间必须大于2小时才可用于生产;
1.尺寸涨缩概述
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底片尺寸涨缩的原因:
（3）温湿度控制失灵;
底片尺寸涨缩的控制方法:
（3）温度控制在22+2℃,湿度在55%+5%RH;
1.尺寸涨缩概述
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1.尺寸涨缩概述
温度的影响 :
在相对湿度下,菲林的尺寸随着温度的上升而涨大,温度下
降而缩小,其热涨变形系数在18ppm/℃左右,也就是说当温度发生
1℃的变化时,50cm长的菲林会发生9um的变化（或20寸中的
）.
湿度的影响 :
在相对温度下,菲林的尺寸随着湿度的上升而涨大,相对湿度的降低而
缩小,湿涨变形系数在10ppm/%RH右,也就是说当湿度度发生 1℃的
变化时,50cm长的菲林会发生5um的变化（或20寸中的）.
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底片尺寸涨缩的原因:
（4）曝光机温升过高.
底片尺寸涨缩的控制方法:
（4）采用冷光源或有冷却装置的曝光机及不断更换备份底片.
1.尺寸涨缩概述
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2.尺寸涨缩流程分解
厂商:±300PPM
建议厂内管控: R值≦300PPM
温湿度管控:
温度22±2℃湿度5±5％
PP须放在室内6~12HR以上
先进先出管
理
内层前处理
前后差异
底片上机前后变
化
曝光机內部温湿
度变化
裁切经
纬向区分
压合程式
钻靶
DES后尺寸变化
经纬向区分
30sht/叠,150度4小
时
烤箱温度均勻性监控
烘烤后冷却时间监控
无尘室温湿度
管控
上PIN作业
X-Ray偏孔
檢查
基板尺寸安定性
检测
储存条件
有效期点检:
基板:
:
压烤前后尺
寸变化
暂存要求
温度22±2℃,湿度
55±5％
内层涂布前
后差异
底片单张差异
底片每套间差异
底片使用次数
铆合与热熔
同心圆对准
度检测
热压/冷压
钻靶精度
尺寸涨缩检测
Run Out
值检测
进料 开料 内层 压合 钻孔
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2.尺寸涨缩流程分解
防焊前处理
前后差异
上PIN
无尘室温湿
度管控
温度22±2℃,湿度
55±5％
无尘室温湿
度管控
温度22±2℃,湿
度55±5％
PTH前处理
前后差异
外层前处理
前后差异
压膜前
后差异
曝光机內部温
湿度变化
底片上机前
后变化
底片单张差异
底片每套间差异
底片使用次数
IICu前
后差异
蚀刻后尺
寸变化
防焊预烤前
后差异
曝光机內部温
度湿度变化
底片上机前
后变化
后烤前后变
化
印刷前尺
寸变化
印刷对准
度
后烤后尺寸
变化
制版底片涨缩
网版张力
网版涨缩
网版使用次数
二钻前尺
寸变化
孔位檢查
Run
Out值检
测
PTH/ICU 外层 IIC
u
防焊 文字 二钻
PTH/Icu
前后差异
底片单张差异
底片每套间差异
底片使用次数
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3.尺寸涨缩管制方法
IQC进料对基板的玻布厂牌、进料尺寸安定性状况进行记录.
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开料对以下基板进行烘烤150℃4H,使基板在制程中的涨缩更稳
定.追踪板各站尺寸变化,
烘烤基板变化小于未烘烤基板,基板烘烤后更稳定.各站测试如下：
料号
DES后R值
(mil)
压合R值
(mil)
外层R值
(mil)
防焊R值
(mil)
烘烤
X
Y
未烘烤
X
Y
3.尺寸涨缩管制方法
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内层、外层、防焊曝光时都对底片进行上机前后尺寸变化数据进行收集,通
过数据收集分析是否出现底片上机后不稳定.
试验方法:
1. 内层选取E162C6014DD,对此料号分别使用富士菲林, 均量产超过16小
时确认量产中尺寸变化以及最终尺寸变化
2.量测设备:八目尺
结果结果::
E162C6014DDE162C6014DD内层底片内层底片::上机后十六小时与上机前对比上机后十六小时与上机前对比DXDX最大变化缩最大变化缩
,,DY最大变化缩最大变化缩.
3.尺寸涨缩管制方法
發發放值放值 44小小時變時變化化 88小小時變時變化化 1616小小時變時變化化 1616小小時總變時總變化化
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压合后进行尺寸涨缩量测,记录厂牌、板厚、PP、叠构等进行模组
分类分析. 09年4月~09年09月不同基板层涨缩现况分
析
月
份
层别
0904月 0905月 0906月 0907月 0908月 0909月
4L 13 23 8 13 10 15
6L 19 11 12 20 10 24
8L 4 1 0 1 3 3
合计 36 35 20 34 23 42
3.尺寸涨缩管制方法
20
说明说明:04:04月份修正内层补偿系数月份修正内层补偿系数,,改善效果呈下降趋势改善效果呈下降趋势,,故此次不需做改善故此次不需做改善;;
09年04月~09年09月异常总表分析模块(四层板)
厂版 基板 pp组合 偏涨(件) 偏缩(件)
宏仁 1080 16 3
宏仁 1080/2116 11 1
南亚 1 7628*2 2 0
宏仁 2116 1 0
宏仁 1080 1 0
08/05~09/04月份异常柏拉图 09/04~09/09月四层板异常统计表
3.尺寸涨缩管制方法
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09年04月~09年09月异常总表分析模块(六层板)-1
厂版 基板 pp组合 偏涨(件) 偏缩(件)
宏仁 +06 1080+2116 1 0
宏仁 + 1080+2116 22 2
宏仁 7628 0 2
宏仁 + 1080+2116 7 0
宏仁 2116+7628 2 0
宏仁
7628+1080
3 2宏仁 2116+1080
宏仁 2116+1056
宏仁
2116+1080
1 2
宏仁 7628
宏仁 7628 0 8
结果结果::从总表模块分析以上三种为异常最多的叠构从总表模块分析以上三种为异常最多的叠构;;
3.尺寸涨缩管制方法
22
09/04-09/09月份异常柏拉图
结果结果::六层板不良所占比例为六层板不良所占比例为50%;50%;
09年04月~09年09月异常总表分析模块(六层板)-1
3.尺寸涨缩管制方法
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09/04-09/09月份异常柏拉图
09年04月~09年09月异常总表分析模块(六层板)-3
结果结果:1.:1.前三大模块为前三大模块为+
2. 2.目前试验南亚与宏仁目前试验南亚与宏仁基板基板((建议建议10861086型型PPPP迭构为迭构为的基板稳定性优于的基板稳定性优于10801080型型PP;PP;
3.尺寸涨缩管制方法
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09年04月~09年09月异常总表分析模块(八层板)
结果结果::从异常总表分析八层异常较少从异常总表分析八层异常较少,,无法进行模块分析无法进行模块分析,,目前以个案进行改善目前以个案进行改善
;;
厂版 基板 pp组合 偏涨(件) 偏缩(件)
宏仁 + 1080 0 2
宏仁 + 1080/2116 1 1
宏仁 1080 1 1
宏仁 1506+2116 1 0
3.尺寸涨缩管制方法
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追踪后制程中各站涨缩,针对各站涨缩变化确定各站补偿.
项次
内层前处
理前后
内层蚀刻
前后
棕化前
后
压合前
后
PTH磨
刷
PTH/I
CU
外层前处
理磨刷
二铜蚀刻
前后
防焊磨刷
前后
M -1
2
3.尺寸涨缩管制方法
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4.异常处理
分析钻孔偏移是否为整体偏移状况
-RAY拍光与内层隔离RING对位(<2MIL异常)
NG OK
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OK(切破铜Pad对内层
>2MIL)
OK
NG(待收集)
-RAY拍光内层有铜Pad但无线路则可切破铜Pad但需保
证与内层隔离RING对位>2MIL.
4.异常处理
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-RAY拍光内层有铜Pad且有线路则可相切铜Pad但不能切断线
路.
NG(切断线路
)
OK
出现以上三种方式NG偏孔状况确认为整体偏孔异常.
4.异常处理
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判断是否因涨缩导致异常:
靶孔偏移程度(>2MIL异常)
NG OK
如果发现为靶偏导致偏孔,需重新取未靶偏板首件.
有无层偏现象:
NG OK
4.异常处理
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NG OK
同心圆相切为层偏,如发现层偏严重立即知会相关单位,取无层偏板重新首件.
CPK测试情况:
AOI测试机 钻靶图
≧为OK,否则改善后重新进行首件.
通过以上分析,如无靶偏/层偏/钻孔精度异常则确认为涨缩异常需
进行钻带修改.
4.异常处理
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.异常当站改善方法.
通过X-RAY拍光用图片与图标记录偏孔方向.
X-RAY拍光照片 偏孔方向记录
通过图标确定修改钻带时修改原点位置.
4.异常处理
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涨缩常见状况:
不良类型一:此异常需加大钻带比例修改(如:原X=Y=改为
X=Y=).
原点处
异常状况一
4.异常处理
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不良类型二:此异常需缩小钻带比例修改(如:原X=Y=改为
X=Y=).
原点处
异常状况二
4.异常处理
34
不良类型三:此异常移动PIN孔位置修改(如:将原PIN上移).
原点处
异常状况三
4.异常处理
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-RAY拍光记录料号CAM值与内层补偿比例.
记录料号数据（涨缩异常分析报告中项目记录）
主要记录项目为: 钻孔机台号,钻板层叠数,基板厂牌,基板进料批
号,PP型号,core厚,裁板方式,残铜率,最小孔径等.
4.异常处理
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取未鉆板至少５PNL;
至压合X-RAY钻靶将外围孔钻出:
红色处需钻靶 X－RAY钻靶机
4.异常处理
37
使用三次元进行量测：
三次元 长边靠下三孔处置于左下角
实际涨缩比例＝实测板平均值/CAM值
综合钻带原点位置与实际涨缩比例进行钻带修改.
钻带修改后确认首件(标准参照).
4.异常处理
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量测内层底片涨缩:
取内层底片 使用二次元进行底片量测
量测实际值与底片输出值差异>2MIL时为异常.
.综合以上数据汇总异常总表分析.
4.异常处理
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针对异常料号进行修正补偿
修改钻带时 内层补偿修改大小
不修改
补偿增大
补偿增大
补偿增大
补偿增大
补偿减小
补偿减小
补偿减小
补偿减小
根据修改钻带大小,对应上表进行内层补偿修改.
当修改钻孔数据时确认为以下原因时不修改内层补偿:
1.确认涨缩异常为底片涨缩超标导致(量测底片>2MIL),需请内层工程师协助分析.
2.确认涨缩异常为基材不稳定导致(尺寸安定型测试超出+/-300PPM),需知会压
合工程师共同找厂商进行检讨分析.
4.异常处理
40
外层/防焊底片对应修改
a.外层底片修改比例:
外层曝光底片比例在钻孔比例上加大1/万,原点位置同钻孔修改
变更.(如:钻孔修改X=Y=原点移至中心,则外层比例修改
为原点移至中心.)
b.防焊底片修改比例:
防焊曝光底片比例均修改为与钻孔同比例,原点位置同钻孔变更
.(如:钻孔修改X=Y=原点移至中心,则防焊底片修改为
X=Y=原点移至中心).
4.异常处理
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基板尺寸涨缩的原因:
（1）经纬方向差异造成基板尺寸变化;由于剪切时,未注意纤维
方向,造成剪切应力残留在基板内,一旦释放,直接影响基板尺寸的收缩.
（2）基板表面铜箔部份被蚀刻掉对基板的变化限制,当应力消除
时产生尺寸变化.
（3）刷板时由于采用压力过大,致使产生压拉应力导致基板变形.
（4）基板中树脂未完全固化,导致尺寸变化.
（5）多层板在层压前,存放的条件差,使薄基板或半固化片吸湿,
造成尺寸稳定性差.
（6）多层板经压合时,过度流胶造成玻璃布形变所致.
1.尺寸涨缩概述(补充）
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1.尺寸涨缩概述(补充）
基材尺寸涨缩的控制方法:
（1）确定经纬方向的变化规律按照收缩率在底片上进行补偿(光
绘前进行此项工作).同时剪切时按纤维方向加工,或按生产厂商在基
板上提供的字符标志进行加工.(一般是字符的竖方向为基板的纵方向
)
（2）在设计电路时应尽量使整个板面分布均匀.如果不可能也要
必须在空间留下过渡段(不影响电路位置为主).这由于板材采用玻璃
布结构中经纬纱密度的差异而导致板材经纬向强度的差异.
（3）应采用试刷,使工艺参数处在最佳状态,然后进行刷板.对薄
型基材,清洁处理时应采用化学清洗工艺或电解工艺方法.
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（4）采取烘烤方法解决.特别是钻孔前进行烘烤,温度120℃、4小时,
以确保树脂固化,减少由于冷热的影响,导致基板尺寸的变形.
（5）内层经氧化处理的基材,必须进行烘烤以除去湿气.并将处理好
的基板存放在真空干燥箱内,以免再次吸湿.
（6）需进行工艺试压,调整工艺参数然后进行压制.同时还可以根据
半固化的特性,选择合适的流胶量.
1.尺寸涨缩概述(补充）
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1.尺寸涨缩概述(补充）
底片尺寸涨缩的原因:
（1）底片从真空包装拆包后静置时间不足;
（2）底片绘制完成后静置时间不足直接用于生产;
（3）温湿度控制失灵;
（4）曝光机温升过高.
底片尺寸涨缩的控制方法:
（1）黑片从真空包装中拆封后需静置24小时,棕片需静置8小时;
（2）底片绘制完成后静置时间必须大于2小时才可用于生产;
（3）通常情况下温度控制在22+2℃,湿度在55%+5%RH;
（4）采用冷光源或有冷却装置的曝光机及不断更换备份底片.
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Thank You!
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